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镀铬电解液的浓度分为高、中、低三类,其特性与用途

镀铬电解液的浓度通常分为高、中、低三类，其特性与用途如下:低浓度电解液:铬酐含量约在150克/升以下，它允许采用高的电流密度(60～70A/d㎡)电流(16～18%)，分散能力比其他镀铬电解液高，铬层硬度高，获得光亮镀层的温度和电流密度范围狭窄，电解液的带出损失少。适用于外形简单的零件镀硬铬。

高浓度电解液:铬酐含量约350克/升，允许采用较低的电流密度(15～25A/d㎡)，电流效率低(10～12%)，分散能力低，深镀能力好，工作范围宽，电解液稳定，镀层较软，裂纹网不显著。因镀液浓度高，带出损失较大。这类电解液适合于各种形状零件的装饰性镀铬。

为什么双层镀镍能提高镍层的防护性能?

答:双层镍是先沉积一层无硫的(或含硫量较少的)柱状组织的半光亮镍(或普通暗镍)，然后再镀上一层含硫较高的层状组织的全光亮镍层。层镍的厚度通常占总厚度的2/3左右。镀层的机械性能主要由韧性较好的半光亮镍(或普通暗镍)层决定。两个镍层之间，由于含硫量不同，它们的电极电位亦不同。一般说来，层半光亮镍层的电位比全光亮镍层更正。若半光亮镍完全不含硫，那末，光亮镍与半光亮镍之间就有一个比较大的电位差(约155MV)。

盛有电镀液中的金属离子

在盛有电镀液的镀槽中，经过清理和特殊预处理的待镀件作为阴极，用镀覆金属制成阳极，两极分别与直流电源的负极和正极联接。电镀液由含有镀覆金属的化合物、导电的盐类、缓冲剂、pH调节剂和添加剂等的水溶液组成。通电后，电镀液中的金属离子，在电位差的作用下移动到阴极上形成镀层。阳极的金属形成金属离子进入电镀液，以保持被镀覆的金属离子的浓度。在有些情况下，如镀铬，是采用铅、铅锑合金制成的不溶性阳极，它只起传递电子、导通电流的作用。电解液中的铬离子浓度，需依靠定期地向镀液中加入铬化合物来维持。

真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法

真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法，通过将蒸发的原子或分子应用于要电镀的物体，在表面上形成金属或化合物的薄膜。在这里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工业应用包括装饰、包装纸等，将铝沉积在金属光泽上，作为电气应用，用于电阻和电容器。如果地基不释放气体，它可以使用非金属，而不仅仅是金属。

此外，真空电镀的沉积方法包括PVD（物理气相沉积）和CVD法（化学气相沉积）。PVD 使用热和等离子体能量蒸发固体材料，并将其沉积在基板上。 CVD是一种利用热和等离子体等能量的气体，包括薄膜和元素，通过激发和分解在基板表面吸附和形成薄膜。